国内首台自主知识产权光刻机将在合肥面世

　　新华网合肥11月12日专电（记者熊润频）国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的直写式光刻机即将在合肥面世，标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面将被打破。

　　记者从位于合肥市经济开发区的芯硕半导体（合肥）有限公司了解到，该公司生产的两台直写式光刻机样机已进入最后的总装调试阶段，12月底将面世。据介绍，与目前国际上同类产品相比，其生产的直写式光刻机分辨率达到亚微米级，且产能较高，达到了世界领先水平。

　　据悉，光刻机是半导体设备里最关键的设备之一，每一代半导体技术的发展都是以光刻线宽为代表。但目前在中国，生产用光刻机完全依赖进口，国产品牌的亚微米级光刻机还是空白。芯硕半导体公司生产的直写式光刻机具有中国自主知识产权，将为中国光刻机技术的发展奠定坚实基础。