中新网9月19日电 全球晶圆代工龙头台积电已率先布局全球最尖端的45纳米技术，近日将引进全球第一套制造45纳米晶圆的曝光设备，成为台积电内部的“秘密武器”。这套堪称全球最尖端设备之所以引人瞩目，在于不同以往“干式”制程，而采“湿式”机台。

　　据台湾媒体报道,过去“干式”曝光显影是在无尘室中，以空气为媒介进行，光透过光罩在空白晶圆上面显影；而浸润式微影则是利用水为透镜，在晶圆与光源之间加入一层纯水。193波长光束透过“水”为中介，相当神奇的可缩短波长，刻出更精密的芯片。

　　据报道，这项由台积电独家开发出利用“水”为媒介的浸润式显影技术，可将晶圆制造技术推进到65纳米、45纳米甚至32纳米，若以每个世代晶圆制造约三年计算，这项技术延续了半导体业生命足足有10年之久。

　　不过，浸润式机台仍存在许多技术难度，例如水与制程中的光阻剂产生反应，及水中的气泡，都会使晶圆曝光过程，产生许多瑕疵，可能损及晶圆片上的成像，这都是浸润式微影所要克服的技术瓶颈。